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隨著科技的發展，使用磁控濺射鍍膜系統對顆粒狀物體鍍膜已經不再是一件難事。特別是在顆粒狀金屬物體表面使用鍍膜技術已經相當成熟。這是應為顆粒物體表面積能都比較大，其之間能夠容易進行團聚，曲率半徑卻是小的，因此在顆粒狀物體表面上使用磁控雖然可行，但是其難度系數也是非常大的。
國外在顆粒表面使用鍍膜技術基本上是采用無極化學鍍，這種技術相對來講是比較成熟的，但是所鍍出來的膜質量較差，差在哪里呢？其薄膜福海均勻性達不到要求，且表面居多裂痕，附著力比較差，且鍍液對環境造成的影響是非常的大的。
而我國采用的微顆粒磁控濺射鍍膜設備。主要由真空室、陰極靶、樣品架、樣品皿、加熱器、真空抽氣裝置、氬氣通氣口、放氣閥、密封圈、振動發生器等組成. 本設備是在普通直流磁控濺射鍍膜設備的基礎上，增加了一個超聲波振動發生器，濺射鍍膜時，通過調節樣品架的擺動頻率和超聲波的振動功率，使每個微顆粒都能維持一個良好的分散狀態和較好的流動性，使每個微顆粒都有機會充分地暴露其表面，并通過調節真空室內的工作氣壓、濺射功率、溫度和濺射時間等工藝條件，就可以在微顆粒表面沉積上金屬薄膜。
使用這種設備對微顆粒進行磁控濺射鍍膜的好處就是能夠使得每個微顆粒的表面都能夠等概率的暴露。從而使得每個表面都能夠堵上均勻，致密，附著力好，無裂痕的薄膜。
