磁控濺射是物理氣相堆積的一種,磁控濺射通過在靶陰極外表引入磁場,使用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射工藝在日常操作過程中有哪些常見的毛病呢?
磁控濺射常見毛病及解決辦法
1.無法起輝
(1)直流電源毛病,查看直流電源;
(2)氬氣進氣量小,查看氬氣流量計或加大氬氣進氣量;
(3)真空室清潔度不行,清潔真空室;
(4)靶材絕緣度不行,查看靶是否與地短路,在通水的情況下,對地電阻應該在 50kΩ以上;
(5)磁場強度不行,查看永磁體是否消磁;
(6)真空度太差,查看真空體系。
2.輝光不穩
(1)電壓電流不穩,查看電源;
(2)真空室壓力不穩,查看氬氣進氣量及真空體系;
(3)電纜毛病,查看電纜是否連接良好。
3.成膜質量差
(1)基片外表清潔度差,清潔基片外表;
(2)真空室清潔度差,清潔真空室;
(3)基片溫度過大或過小,查看溫控體系,校準熱電偶;
(4)真空室壓力過大,查看真空體系;
(5)濺射功率設置不當,查看直流電源,設置何事的設定功率。
4.濺射速率低
(1)氬氣進氣量過大或過小,調查輝光色彩可以判定氬氣是過大仍是過小,據此調整氬氣進氣量;檢修流量計;
(2)靶材過熱,查看冷卻水流量;
(3)查看永磁體是否消磁。
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