我們知道每一種鍍膜方式的不同都有不一樣的差異,這處理根據鍍膜的方式不同之外,還跟所鍍的材料有關系,這種差別我們很難看出來,因為根據目前的鍍膜行業中的一些高端設備,比如說磁控濺射鍍膜儀,都是屬于比較精細的一種鍍膜機械。
那么在現今的發達科技中,磁控濺射鍍膜儀鍍膜有哪些優勢呢?下面小編來深入的分析一下:
磁控濺射鍍膜設備所鍍的膜穩定性好,這是因為其膜不僅厚,而且所生成的時候非常穩定,另外還根據濺射電流來控制。我們知道電流越大,這種設備的濺射率也就相對的變大,這也是磁控濺射鍍膜設備非常穩定的一個因素。
另外采用磁控濺射鍍膜設備來生成膜層,不管鍍多少次膜,他所鍍出來的膜厚度基本上是一樣的,而且非常穩定。
從上述淺析中,我們不難發現磁控濺射鍍膜設備的優勢,其實就是在于穩定,這也是目前一些精細產品鍍膜選擇這種設備的原因。
薄膜是先通過把表面締造物大致地填滿該塑膠毛細微孔后并作鏈接而形成。濺鍍與常用的蒸發鍍相比,濺鍍具有電鍍層與基材的結合力強-附著力比蒸發鍍高過10倍以上,電鍍層致密,均勻等優點。真空蒸鍍需要使金屬或金屬氧化物蒸發汽化,而加熱的溫度不能太高,否則,金屬氣體沉積在塑膠基材放熱而燒壞塑膠基材。濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高,可生產10nm以下的極薄連續膜,靶材的壽命長,可長時間自動化連續生產。靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設計做更好的控制及*有效率的生產。
濺鍍利用高壓電場做發生等離子鍍膜物質,使用幾乎所有高熔點金屬,合金和金屬氧化物,如:鉻,鉬,鎢,鈦,銀,金等。而且,它是一個強制沉積的過程,采用這種工藝獲得的電鍍層與塑膠基材附著力遠遠高于真空蒸鍍法。但,加工成本相對較高。