離子束濺射系統(tǒng)常見的離子鍍類型及特點

2020-07-21 16:31:44

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真空離子束濺射系統(tǒng)是真空鍍膜設備的一種，它指的是一類需要在一定真空環(huán)境下進行的鍍膜。離子鍍膜機的原理和真空鍍膜機的類似，這里就不多加贅述了。今天，給大家簡單介紹下離子束濺射系統(tǒng)較常使用的離子鍍的類型及特點。

1、電阻加熱或電子束加熱蒸發(fā)源

①直流放電二極型

特點：繞射性好，附著性好，基板溫度易上升，膜結(jié)構(gòu)及形貌差，若用電子束加熱必須用差壓板。

②多陰極型

特點：采用低能電子離化效率高，膜層質(zhì)量可控制。

③射頻放電離子鍍

特點：不純氣體少，成膜好，化合物成膜更好。匹配較困難。

2、電子束加熱蒸發(fā)源

①活性反應蒸鍍

特點：蒸鍍效率高，能獲得三氧化二鋁、TiN等薄膜。

②增強的ARE型

特點：易離化，基板所需功率和放電功率能獨立調(diào)節(jié)，膜層質(zhì)量、厚度都容易控制。

③低壓等離子鍍

特點：結(jié)構(gòu)簡單能獲得TiC、TiN等化合物鍍層。

④電場蒸發(fā)

特點：帶電場的真空蒸鍍，鍍層質(zhì)量好。

3、等離子電子束

空心陰極放電離子鍍

特點：離比效率高，電子束斑較大，金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜都能鍍。

離子束濺射系統(tǒng)