磁控濺射鍍膜在高清PET基材上進(jìn)行多層貴金屬磁控濺鍍,通過對濺射的金屬層數(shù)和種類的設(shè)計達(dá)到光譜選擇的目的,從而實現(xiàn)可見光高透過。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵?/span>
磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一,磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜。
磁控濺射技術(shù)發(fā)展過程中各項技術(shù)的突破一般集中在等離子體的產(chǎn)生以及對等離子體進(jìn)行的控制等方面。通過對電磁場、溫度場和空間不同種類粒子分布參數(shù)的控制,使膜層質(zhì)量和屬性滿足各行業(yè)的要求。
相對準(zhǔn)確的電磁場設(shè)計是對濺射過程中的電磁場進(jìn)行模擬,而不是只對未工作時的磁控濺射設(shè)備進(jìn)行電磁場模擬。
陽極設(shè)計要考慮空間的位置,電位關(guān)系,尺寸和面積以及陽極的材料性能,保證濺射過程穩(wěn)定進(jìn)行。屏蔽的設(shè)計,首先要考慮電場的設(shè)計和電位關(guān)系,防止非靶材材料被濺射,污染薄膜。
濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用,并伴隨靶材原子及原子團(tuán)簇的產(chǎn)生的過程。