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濺射產(chǎn)額隨入射離子能量變化的簡(jiǎn)單示意圖，簡(jiǎn)稱濺射曲線。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵?/span>
顏色可以做到比較深，耐磨性能也很好，但其色調(diào)不夠純正，總是黑中略帶黃色。并且由于鈦的熔點(diǎn)相對(duì)較低，在濺射時(shí)易出現(xiàn)大的顆粒，使其光令度不易得到改善。
濺射鍍膜過(guò)程主要是將欲沉積成薄膜的材料制成靶材，固定在濺射沉積系統(tǒng)的陰極上，待沉積薄膜的基片放在正對(duì)靶面的陽(yáng)極上。濺射系統(tǒng)抽至高真空后充入氬氣等，在陰極和陽(yáng)極之間加載高壓，陰陽(yáng)極之間會(huì)產(chǎn)生低壓輝光放電。
磁控濺射鍍膜技術(shù)主要用于塑料、陶瓷、玻璃、硅片等制品來(lái)沉積金屬或化合物薄膜從而獲得光亮、美觀、經(jīng)濟(jì)的塑料、陶瓷表面金屬化制品。
磁控濺射不僅應(yīng)用于科研及工業(yè)領(lǐng)域，已延伸到許多日常生活用品，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積制膜困難的薄膜制備。
磁控濺射鍍膜技術(shù)由于其顯著的優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)成為制備薄膜的主要技術(shù)之一。非平衡磁控濺射改善了等離子體區(qū)域的分布，顯著提高了薄膜的質(zhì)量。
磁控濺射技術(shù)已經(jīng)在我國(guó)的建材、裝飾、光學(xué)、防腐蝕、工磨具強(qiáng)化等領(lǐng)域比較廣泛的應(yīng)用,利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行光電、光熱、磁學(xué)、超導(dǎo)、介質(zhì)、催化等功能薄膜制備是當(dāng)前研究的熱點(diǎn)。
