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磁控濺射系統(tǒng)的工作原理是電子在電場E的作用下飛向襯底的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，并使它們電離產(chǎn)生Ar正離子和新電子。 Ar離子在電場的作用下加速到陰極靶，并以高能轟擊靶表面，從而使靶材料濺射。 磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)私飧嘈畔ⅲ?/p>
磁控濺射包括許多類型。 每個都有不同的工作原理和應(yīng)用對象。 但是，它們有一個共同點(diǎn)：磁場和電場之間的相互作用導(dǎo)致電子在目標(biāo)表面附近盤旋，從而增加了電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的可能性。 產(chǎn)生的離子在電場的作用下撞擊靶表面并濺射靶材料。
磁控反應(yīng)濺射絕緣子似乎很容易，但實(shí)際操作卻很困難。 主要問題是該反應(yīng)不僅發(fā)生在零件的表面上，而且發(fā)生在陽極，真空腔的表面和目標(biāo)源的表面上，這會導(dǎo)致滅火，目標(biāo)源和表面起弧 工件。 德國萊比錫發(fā)明的雙靶技術(shù)很好地解決了這個問題。 原理是一對目標(biāo)源是彼此的陰極和陽極，因此陽極表面被氧化或氮化。
在450磁控濺射中，由于運(yùn)動中的電子在磁場中受到洛倫茲力，因此它們的運(yùn)動軌跡會彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動，并且它們的運(yùn)動路徑會變長，從而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)并產(chǎn)生了等離子體 堆積密度的增加，使得磁控管濺射速率大大提高，并且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，從而減少了薄膜污染的趨勢。
在機(jī)械加工工業(yè)中，表面功能膜，超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術(shù)自問世以來發(fā)展迅速，可以提高表面硬度，復(fù)合韌性，耐磨性和高溫化學(xué)穩(wěn)定性。 延長涂層產(chǎn)品的壽命。
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