磁控濺射卷繞鍍膜是采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)的方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上,進行單層或多層鍍膜。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵?/span>
磁控濺射卷繞鍍膜技術(shù)由于覆蓋領(lǐng)域廣泛,雖然比蒸發(fā)卷繞鍍膜技術(shù)起步晚,但發(fā)展極為迅速,在未來的高科技領(lǐng)域和環(huán)保節(jié)能領(lǐng)域?qū)⒋笥锌蔀椤?/span>
磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞。
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面,也發(fā)生在陽極,真空腔體表面以及靶源表面,從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù),很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。
磁控濺射除上述已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域,還在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。
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