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在鍍膜行業(yè)中，磁控濺射鍍膜儀是地位相當(dāng)特殊的一種設(shè)備。其出現(xiàn)的時候大幅度晚于其他類型的鍍膜設(shè)備，諸如真空鍍膜機(jī)、離子鍍膜機(jī)的規(guī)劃出產(chǎn)時刻都早于磁控濺射鍍膜設(shè)備。
但在世紀(jì)的職業(yè)使用之中，磁控濺射鍍膜設(shè)備的使用規(guī)模卻并不小于上述兩者，甚至在某些特定設(shè)備的鍍膜需求中是超越這二者的。
例如在手機(jī)外殼的鍍膜中，磁控濺射鍍膜設(shè)備的受歡迎程度是遠(yuǎn)大于真空鍍膜的。
原因在于磁控濺射鍍膜設(shè)備的鍍膜方法出產(chǎn)出來的手機(jī)殼往往在外觀上會比相同材料的真空鍍膜更加亮，并且質(zhì)感也遠(yuǎn)優(yōu)于后者。
對于手機(jī)殼這種外表漂亮度需求較高的產(chǎn)品來說，更加漂亮也就意味著更好的市場。
磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點。
濺射過程中涉及到復(fù)雜的散射過程和多種傳遞過程：入射粒子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞，入射粒子的一部分動能會傳給靶材原子。
濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。利用低壓惰性氣體輝光放電來產(chǎn)生入射離子。
各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
