青海 JGP-450型單室磁控濺射

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JGP-450型單室磁控濺射系統(tǒng)

設(shè)備用途

JGP-450型單室磁控濺射系統(tǒng)用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

◆設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、 磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。磁力送樣機(jī)構(gòu)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。

◆技術(shù)指標(biāo)

極限真空度：≤6.6×10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；

系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-7 Pa.l/S；

系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂螅匍_始抽氣，40分鐘可達(dá)到8.0×10-4 Pa；

停泵關(guān)機(jī)12小時后真空度：≤5 Pa；

磁控濺射設(shè)備性能舉例：

1.用直流電源磁控沉積金屬Cu膜，可以制備出沉積速度40nm/min的膜層；同時小樣品的膜厚均勻性可以達(dá)到3％；可以在硬質(zhì)和柔性沉底生長膜層；常溫也可以沉積Cu膜，不脫落，但是結(jié)合力不好；

2.用射頻電源磁控沉積氧化硅和氧化鋁膜層（等各頭氧化物薄膜），可以制備出沉積速度3—5nm/min的膜層；小樣品膜層厚度均勻性可以達(dá)到3％；膜層的介電性能較好；

系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片加熱公自轉(zhuǎn)臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。

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