當(dāng)前標(biāo)簽：共濺膜制備價(jià)格
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設(shè)備用途：CKG-60三靶共濺薄膜制備系統(tǒng)金屬和合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、磁性材料薄膜、氧化物和氮化物等電介質(zhì)薄膜、新型功能薄膜、多層薄膜、多元彌散復(fù)合膜的制備。主要配置及特點(diǎn)：主要由不銹鋼真空室，真空及測(cè)量系統(tǒng)，供氣及流量控制系統(tǒng)，多樣品轉(zhuǎn)臺(tái)
