設(shè)備用途:
高真空電弧熔煉及吸鑄系統(tǒng)用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
設(shè)備組成:
主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、磁力攪拌、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺等各部分組成。
極限真空:8x10-5Pa;
20分鐘可達(dá)到5x10-3Pa;
共5個(gè)工位(SR35mm):3個(gè)熔煉合金工位(帶磁攪拌);1個(gè)熔煉除氣工位;1個(gè)吸鑄工位;熔煉樣品重量(以鐵標(biāo)定)100克;
分子泵系統(tǒng):1套;
熔煉電源輸入電流:1250A;
冷卻水路系統(tǒng):1套。