設備用途：

單室離子束鍍膜設備系統(tǒng)為高真空多功能離子束沉積系統(tǒng)， 系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導體、 介質(zhì)復合膜等。 廣泛應用于大專院校、 科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。

設備組成：

系統(tǒng)主要由沉積室、 考夫曼濺射離子源、 考夫曼清洗輔助離子源、 樣品臺、 樣品加熱裝置、膜厚監(jiān)測系統(tǒng)、 泵抽系統(tǒng)、 真空測量系統(tǒng)、 氣路系統(tǒng)、 電控系統(tǒng)等組成。

技術指標：

1、極限真空度：≤8.0×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；

2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-8Pa.L/S；停機12小時≤5Pa.

3、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，45分鐘可達到6.6×10-4Pa；

4、系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組成。