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地址：沈陽市渾南區祥瑞產業園
設備用途：
EB500型電子束蒸發與電阻蒸發復合鍍膜系統用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。
設備組成：
系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。
技術參數：
極限真空度：≤6.67×10-5Pa；
抽速：45分鐘可達到6.67×10-4Pa；
基片尺寸：4英寸x1片；
加熱爐最 高溫度800°C；
熱阻蒸發組件：2套；
新型電子槍及電源：電子槍最 大功率8KW（10KV,800mA）可調；
水冷式坩堝： 4穴坩堝，每個容量約為11 ml；
膜厚控制儀（1個探頭）：1套；
分子泵系統：1套；
控制系統：用工控機進行系統操作，可顯示或自動控制的功能有：電子槍、膜厚控制儀、樣品旋轉及加熱、氣路、抽氣；
冷卻水循環機及水路組件：1套；
離子轟擊系統組件：1套。
