設(shè)備用途：

磁控與離子束復(fù)合系統(tǒng)用于納米級(jí)單層及多層功能膜、 硬質(zhì)膜、 金屬膜、 半導(dǎo)體膜、 介質(zhì)膜、 鐵磁膜和磁性薄膜等的制備。 可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、 微電子及新材料領(lǐng)域。

設(shè)備組成：

系統(tǒng)主要由濺射真空室、 磁控濺射靶、 基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、 Kaufman 離子槍、 四工位轉(zhuǎn)靶、 工作氣路、 抽氣系統(tǒng)、 真空測(cè)量、 電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度：≤6.67×10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；

系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-7 Pa.l/S；停機(jī)12小時(shí)≤5Pa.

系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂螅匍_(kāi)始抽氣，45分鐘可達(dá)到6.67×10-4Pa；

系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、安裝機(jī)臺(tái)及電控系統(tǒng)等部分組成。