設備用途:
熱阻蒸發(fā)系統(tǒng)適用于制備金屬薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產前的試驗工作。
設備組成:
該設備主要由金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。可配合手套箱組裝。
技術參數:
極限真空度≤6.6×10-5Pa;
抽速:40分鐘可達到6×10-4Pa;
熱阻蒸發(fā)組件:2套;
有機蒸發(fā)束源爐組件:1套;
樣品尺寸:φ100mm×1片;
樣品臺溫度:300℃;
分子泵系統(tǒng):1套;
膜厚監(jiān)測儀(1個探頭):1套;
冷卻水路系統(tǒng):1套;
自動控制系統(tǒng):1套。